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芯片供应链国产率：涂胶显影机5%！

我们国家生长芯片工业，与其它亲美的国家和地区纷歧样，别的地区可以依赖全球的工业链，来生长自己的，EDA、光刻机、设备、质料等都不受限。

而我们则必须整个国产工业链崛起，实现国产替代，只要一些要害环节无法实现国产替代，就会被卡脖子。

那么目今在比较重要的环节，我们的国产替代率，究竟抵达了几多，哪个环节国产率最低，哪些环节国产率最高？

芯片制造分为三个主要环节，划分是设计、制造、封测。其中封测由于门槛相对较低，所以基本上我们已经能够实现国产替代，不怕被卡脖子。

但在设计与制造方面，国产化方面，却照旧有一点距离的。芯片供应链国产率：涂胶显影机5%，光刻胶7%！

在设计领域，不说架构、IP等，仅设计芯片的EDA工具，国产替代率就仅为5%左右，另外的95%还得依赖外洋的EDA。

而在制造领域，半导体设备这一块，像要害的光刻机，国产替代率仅为1%，涂胶显影机的国产替代率仅为5%，其它各设备，绝大部分的国产替代率均在10%以下，只有单晶炉抵达了30%。

而在半导体质料这一块，各人发明光刻胶国产替代率只有7%，掩膜板只有10%，电子特气也只有12%，绝大部分质料的国产替代率仅在20%上下。

可见，在设计、制造这一块，国产替代率另有很大的提升空间。正如前面所言，也许其它的国家和地区，不需要和美国对抗，不需要什么工业链都靠自己，依托全球先进的工业链即可。

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